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基于烧结机制的钙基吸收剂团聚体结构演变模拟
纪杰, 李明春, 沈存粮, 杨鑫
应用化学    2023, 40 (12): 1726-1736.   DOI:10.19894/j.issn.1000-0518.230151
摘要   (116 HTML1 PDF (3703KB)(112)  

钙循环工艺是一种具有很大应用潜力的脱碳技术,但其吸收剂晶粒间的烧结现象会随循环而加剧,导致高活性介孔及相应碳捕集能力衰减。根据煅烧进程中钙基吸收剂表界面结构的形成与演变特性,构建了再生CaO孔隙通道的拓扑结构和分级团聚体烧结模型,引入了二面角的影响,探讨了不同烧结机制下钙基吸收剂的孔隙迁移规律,并进行实验验证。结果表明,再生CaO的烧结由表面-晶界-体积扩散联合控制; 所建数学模型可揭示钙基吸收剂孔结构动态演变规律,900 ℃不同烧结时间下(300~600 s),粒径75~150 μm的吸收剂(孔径25~75 nm)的模拟计算结果与实验结果的孔体积变化率最大平均相对误差为16.50%,最可几孔径所对应的相对误差在6%内。相同烧结条件下,各粒级吸收剂(38~75、75~150、150~180 μm)的烧结颈生长出现明显的三段式生长,颈部生长率均呈前期快速增长、后期平缓趋势,且颗粒间的烧结会随吸收剂粒极的减小而加剧。

ParameterDs/(cm2·s-135Dv/(cm2·s-135γs/(cm2·s-127Ω/cm3 [36ψ/(°)k/(J·K-1
Value8.5×10-111.667×10-151.5×10-41.72×10-235π/6~π1.38×10-23
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表1 烧结模型中的计算参数
正文中引用本图/表的段落
式中,Δ r 2(nm)是三级团聚体通道孔的半径增加量, r tb3(nm)为三级团聚体通道体孔半径, r tf3(nm)为三级团聚体通道面孔半径。Δ V 4(nm3)为烧结过程中的传质体积。其中,表面扩散机制,晶界扩散机制以及体积扩散机制表达式中相应参数取值见表1。
对钙基吸收剂烧结过程中烧结机制对钙基吸收剂孔隙微观结构演变规律进行研究。建立多级烧结物理模型及不同烧结机制下改进的双球模型,讨论了模拟结果与实验数据的孔径分布对比,结果表明: 1)烧结颈在烧结初期迅速长大,小尺寸的钙基吸附剂颗粒相较于大尺寸颗粒更易于烧结。2)建立钙基吸收剂烧结过程中描述孔结构特征变化的数学模型,能较好地模拟烧结过程动态孔隙变化过程,可以分析任一时刻孔径范围内的孔隙份额。3)钙基吸收剂烧结过程不由一种扩散机制主导,3种机制共同作用得到的孔径分布模型计算结果与实验数据更相符,孔体积变化率平均相对误差在25%内,最可几孔体积变化率平均相对误差在6%内。
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