《光刻胶材料》专辑序言——光刻胶材料助力“中国芯”

doi:10.19894/j.issn.1000-0518.210412

应用化学 ›› 2021, Vol. 38 ›› Issue (9): 1027-1028.DOI: 10.19894/j.issn.1000-0518.210412

《光刻胶材料》专辑序言——光刻胶材料助力“中国芯”

季生象

中国科学院长春应用化学研究所,中国科学院生态环境高分子材料重点实验室,长春 130022

收稿日期:2021-08-17 接受日期:2021-08-17 出版日期:2021-09-01 发布日期:2021-09-06
通讯作者: *Guest editor, e-mail: sji@ciac.ac.cn

Preface to Special Issue “Photoresist Materials”——Photoresist Materials Facilitate the Production of “China-made Chips”

JI Sheng-Xiang

Key Laboratory of Polymer Ecomaterials, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Changchun 130022, China

Received:2021-08-17 Accepted:2021-08-17 Published:2021-09-01 Online:2021-09-06

摘要/Abstract

中图分类号:

O644

季生象. 《光刻胶材料》专辑序言——光刻胶材料助力“中国芯”[J]. 应用化学, 2021, 38(9): 1027-1028.

JI Sheng-Xiang. Preface to Special Issue “Photoresist Materials”——Photoresist Materials Facilitate the Production of “China-made Chips”[J]. Chinese Journal of Applied Chemistry, 2021, 38(9): 1027-1028.

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《光刻胶材料》专辑序言——光刻胶材料助力“中国芯”

Preface to Special Issue “Photoresist Materials”——Photoresist Materials Facilitate the Production of “China-made Chips”

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