拓扑结构不同金属有机聚合物的电化学聚合行为和光谱电化学性质

doi:10.19894/j.issn.1000-0518.210540

摘要/Abstract

摘要：

金属有机聚合物的拓扑结构是影响其光电性质的重要原因之一。通过吡啶配体不同位点引入的电化学活性基团乙烯基或乙炔基，在电极表面电化学聚合制备了拓扑结构不同的钌金属有机聚合物薄膜，并利用循环伏安、紫外-可见吸收光谱、红外反射光谱、扫描电子显微镜等手段对其电化学特性、光电性质、表面形貌等性质进行了表征。结果表明，电活性配合物反应活性位点的空间位阻效应影响了电化学聚合的效率，其不同拓扑结构的聚合产物具有明显的光谱电化学性质差异。

关键词: 钌配合物, 电化学聚合, 拓扑结构, 金属有机聚合物

Abstract:

The topological structure of metallopolymers is one of the important reasons affecting their photoelectric properties. By introducing vinyl or alkynyl groups on different sites of the pyridine ligand， pyridine-ruthenium metallopolymers with different topological structures are prepared on the electrode surface by electrochemical polymerization. Additionally， UV-visible absorption spectra， infrared reflection spectra， scanning electron microscopy and electrochemical techniques are used to characterize the properties and morphologies of the above metallopolymers. The results show that the monomers with different topological structures exhibit different polymerization efficiency due to the effect of steric hindrance， and their polymerization products have obvious differences in photoelectric properties.

Key words: Ru complexes, Electropolymerization, Topological structure, Metallopolymers

中图分类号:

O633.5

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图/表 4

图1 不同配合物及其聚合方式

Fig.1 Different complexes and polymerization reactions

图2 （A）配合物1乙腈溶液的CV曲线；（B）配合物1多圈CV曲线；（C）聚合物P1的CV曲线；（D）聚合物P2的CV曲线；（E）聚合物P4的CV曲线；（F）相同反应条件下系列聚合物薄膜的CV曲线

Fig.2 （A） CV of monomer 1 in CH3CN；（B） CV of monomer 1；（C） CV of polymer P1；（D） CV of polymer P2；（E） CV of polymer P4；（F） CV of a series of polymer films synthesized under the same condition

图3 （A） P1的表面SEM图像；（B） P1的截面SEM图像；（C）配合物6的红外吸收光谱和P6的红外反射光谱

Fig.3 （A） SEM image of P1 on top view；（B） SEM image of P1 on side view；（C） Infrared reflection spectra of complex 6 and polymer P6

图4 聚合物薄膜在不同电位下的紫外-可见吸收光谱（A） P1、（B） P3、（C） P5和（D） P6

Fig.4 UV-Vis absorption spectra of P1 （A）， P3 （B）， P5 （C） and P6 （D） at different potentials

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