Chinese Journal of Applied Chemistry

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C60吡咯烷羧酸衍生物的合成及其清除超氧阴离子自由基(O )的活性

刘绪峰a;b;官文超a;程珍贤b   

  1. a华中科技大学;b湖北大学
  • Received:2009-06-29 Revised:2009-06-29 Published:2006-01-10 Online:2006-01-10
  • Contact: 刘绪峰a;b;官文超a;程珍贤b

Abstract: C60吡咯烷羧酸衍生物的合成及其清除超氧阴离子自由基(O )的活性;光化学反应;富勒烯吡咯烷衍生物;化学荧光;超氧阴离子自由基(O )

CLC Number: