p-Si上激光诱导局部沉积铂

摘要/Abstract

摘要： 现代电子工业中,电子器件基体材料多为半导体或绝缘体,因此,不用外加电源的激光诱导微区沉积技术引起了人们的重视^[1~6].这种高度选择性、高速沉积性、工艺简单的技术在电接插件局部镀,多芯层模块制作中的基板联线,加成法制造微带电路及其修复,半导体集成电路中布线的修复等方面有着广泛的应用前景.

关键词: 电镀铂, 激光诱导沉积, p-Si

Abstract: The partial deposit films on p-silicon wafers were formed from three kinds of plating solution: chloro-platinic acid, potassium tetranitroplatinate and diammine platinium dinitrate under Nd: YAG laser irradiation.The compositions and properties of the depositswere investigated by AES, SEM and XPS techniques.The Pt deposits have ohmic contactwith p-type silicon.

Key words: platinium plating, laser induced deposition, p-silicon

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p-Si上激光诱导局部沉积铂

Laser-Induced Partial Deposition of Pt on p-Silicon Wafers

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