蓝色铬膜层的电沉积机理

摘要/Abstract

摘要： 本文通过对蓝色铬膜层的XPS分析及电化学方法研究了该膜层的沉积过程。结果表明,整个膜层可分为:120nm厚的交界层(主要成分是Cr和基底Ni),250nm厚的中间层(Cr₂O₃,Ct和CtSe,后者决定了膜层呈蓝色),以及100nm厚的表面层(吸附的Cr(Ⅵ)、Cr(Ⅲ),SeO₄^2-和Se),对电沉积历程和机理进行了探讨。

关键词: 蓝色铬膜层, 阴极膜, XPS, H₂SeO₄, CrO₃, CrSe

Abstract: Blue chromium films prepared by cathodic electrodeposition on Ni substrate in a solutionof CrO₃, H₂SO₄ and H₂SeO₄ have been studied by XPS and electrochemical measurement.Theresults indicated that the blue chromium films were made up of three layers, correspondingto the three steps in deposition: (1)The reduction of an oxide layer (NiOCrOH) to metallicNi and Cr, which made an inner layer of about 120nm in thickness.(2)The reduction ofCr(Ⅵ)and the depositions of Cr, Cr₂O₃ and CrSe, which formed a medium layer of about 250nm.(3)The deposition and absorbtion of Cr(Ⅲ) and H₂SO₄ and its reduced products,which formed an outer layer of about 100nm.

Key words: blue chromium film, cathodic film, XPS, H₂SeO₄, CrO₃, CrSe

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蓝色铬膜层的电沉积机理

THE MECHANISM OF ELECTRODEPOSITION OF BLUE CHROMIUM FILM

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