摘要: GaAs 的禁带宽度为1.428eV,而且是直接跃迁,是光电化学电池中很好的电极材料.一些作者研究了 n-GaAs 为基的光电化学电池[1,2].本文讨论了光强,化学刻蚀、氧化还原对浓度及离子修饰对 n-GaAs 光电化学电池输出特性的影响.所用的电极为低阻 n-GaAs[(100)面],ND=5.1×1017cm-3,试验前通高纯氮20分钟.测光强用的辐照计经上海计量局校正,其它测试方法同前文[3].
钱道荪, 孙立中, 沈毅. n-GaAs为基的光电化学电池输出特性[J]. 应用化学, 1988, 0(5): 93-95.
Qian Daosun, Sun Lizbong, Shen Yi. A STUDY OF THE OUTPUT CHARACTERISTICS OF PHOTO ELECTROCHEMICAL CELL(PEC)BASED ON n-GaAs[J]. Chinese Journal of Applied Chemistry, 1988, 0(5): 93-95.