应用化学 ›› 1987, Vol. 0 ›› Issue (3): 81-81.
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魏伟胜
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研究了底吹喷射区的物理过程,并完善了用电位法测量气泡速度及含气率分布的方法,开发了电位探针与微机联结的在线测量系统。实验用的液体有水、甘油-水、ZnCl2水溶液和水银。建立了液体上升速度沿径向高斯分布的方差模型和含气率分布模型。模型运用于变化的喷吹条件(喷吹流量、喷嘴直径、液面高度、液体密度、液体粘度)。导出了气、液上升速度模型,模型特点是同时考虑了气泡与液体的滑移、气泡形成后的初始动量(其动量大小与喷吹流量和气泡大小有关)以及喷射区内的密度变化,研究表明此模型与实验基本相符。
魏伟胜. 底吹氧气连续炼铅过程喷射区物理模拟研究[J]. 应用化学, 1987, 0(3): 81-81.
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