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193 nm化学放大光刻胶研究进展
李小欧, 顾雪松, 刘亚栋, 季生象
Research Progress on Chemically Amplified 193 nm Photoresists
LI Xiao-Ou, GU Xue-Song, LIU Ya-Dong, JI Sheng-Xiang
应用化学 . 2021, (
9
): 1105 -1118 . DOI: 10.19894/j.issn.1000-0518.210264
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