中华医学超声杂志
193 nm化学放大光刻胶研究进展
李小欧, 顾雪松, 刘亚栋, 季生象
Research Progress on Chemically Amplified 193 nm Photoresists
LI Xiao-Ou, GU Xue-Song, LIU Ya-Dong, JI Sheng-Xiang
应用化学 . 2021, (9): 1105 -1118 .  DOI: 10.19894/j.issn.1000-0518.210264

网站版权 © 应用化学     本网站备案：吉ICP备12000082号