%0 Journal Article %A 顾雪松 %A 季生象 %A 刘亚栋 %A 李小欧 %T 193 nm化学放大光刻胶研究进展 %D 2021 %R 10.19894/j.issn.1000-0518.210264 %J 应用化学 %P 1105-1118 %V 38 %N 9 %X 193 nm光刻胶主要有化学/非化学放大、分子玻璃和无机-有机杂化等类型。 目前,商业化193 nm光刻胶基本为化学放大型,主要成分包括聚合物树脂、光致产酸剂、添加剂(碱性添加剂、溶解抑制剂等)和溶剂等。 本文从光刻胶的成分出发介绍193 nm化学放大胶的研究进展,概述目前应用及研究中出现的代表性193 nm化学放大胶,总结其优缺点及未来可能的发展方向。 %U http://yyhx.ciac.jl.cn/CN/10.19894/j.issn.1000-0518.210264